Chemische Filter

In den vergangenen Jahren war die Reinraumtechnik hauptsächlich darauf konzentriert, die Partikelzahl in der Reinraumluft zu minimieren. Mit der Verkleinerung von Strukturen und komplexer werdenden Fertigungsabläufen in der Mikroelektronik gewinnt jetzt auch die Kontamination durch gasförmige Substanzen zunehmend an Bedeutung. Diese gasförmigen Verunreinigungen werden durch natürliche und zivilisatorische Prozesse verursacht, wie zum Beispiel die Ausgasung von Werkstoffen und aus Fertigungsprozessen. Diese gasförmigen Verunreinigungen oder sogenannte Airborne Molecular Contamination (AMC) werden in vier Kategorien eingeteilt: Säuren, Basen, kondensierbare Stoffe und Dotierstoffe.

Aufgrund unserer langjährigen Erfahrung in der Reinraumtechnik für die Halbleiterindustrie haben wir spezielle chemische Filter zur Kontrolle von gasförmigen Verunreinigungen entwickelt. In unseren Labors mit einem breiten Spektrum an Analysemöglichkeiten identifizieren wir zunächst die Kontaminationsprobleme unserer Kunden und bieten dann ein maßgeschneidertes Lösungskonzept für chemische Filter an, das sich durch niedrige Investitions-, Betriebs- und Entsorgungskosten auszeichnet, und empfindliche Fertigungsprozesse wirkungsvoll vor gasförmigen Verunreinigungen schützt. In der Ausführung als gefaltetes Filter oder Taschenfilter bietet M+W Zander ein breites Spektrum an chemischen Filtern für den Einsatz in Filter-Ventilator-Einheiten oder Lüftungs- und Klimageräten an.

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